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microArch S240A 10μm高精度微納3D打印系統基于BMF摩方的技術?面投影微立體光刻技術（PμSL）構建，并融入了摩方自主開發的多項技術。摩方PμSL是一種微米級精度的3D光刻技術，這一技術利用液態樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快 速涂層技術大大降低每層打印的時間，并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復雜三維器件。
更新時間：2025-09-09
產品型號：microArch S240A
瀏覽量：5550
微納3D打印microArch® S240A基于PμSL技術，具備10微米打印精度，支持光敏樹脂和陶瓷漿料打印，專注于微尺度結構的穩定成型。系統搭載自動調平系統，集平臺自動調平，繃膜自動調平和滾刀自動調節三大功能，使工藝參數設置、液面調平、流平時間等步驟實現全自動作業模式。
更新時間：2025-09-09產品型號：microArch® S240A瀏覽量：267
摩方高精度光固化3d打印機microArch® S230（精度：2μm），基于面投影微立體光刻技術（PμSL）構建。全自動水平調節系統：平臺自動調平、膜面自動調平、滾刀自動調節三大系統，打印效率提升近50倍。
更新時間：2025-09-09產品型號：microArch® S230A瀏覽量：986
高精度微納3D打印系統nanoArch S130 ，光學精度2微米，支持光敏樹脂材料打印。系統基于摩方精密創新面投影微立體光刻技術（PμSL），并融入了摩方自主開發的多項技術。
更新時間：2025-09-09產品型號：nanoArch S130瀏覽量：2703
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